真空等離子清洗設備采用低壓激發(fā)等離子體作為清洗介質，有效避免了液體清洗介質對被清洗物體的二次污染。真空等離子清洗設備配有機械真空泵，可通過真空泵將等離子體反應后的污染物抽出，同時保持腔體的真空度。因此有機污染物可以通過短時間清洗干凈。

除了清潔功能，真空等離子清洗設備還可以根據特定條件下的要求改變某些材料的表面性質。在清洗過程中，真空等離子清洗設備的輝光放電可以增強這些材料的附著力、相容性和潤濕性。適用于實驗室和小規(guī)模生產。13.56兆赫射頻電源可以用來匹配各種常見氣體的等離子體。

真空等離子清洗設備可以蝕刻材料的表面。等離子體中的大量離子、激發(fā)分子、自由基等活性粒子作用于固體樣品表面，不僅在表面產生原有的污染物和雜質，還會產生刻蝕效應，使樣品表面粗糙化，形成許多微坑，增加樣品的比表面積。固體表面的潤濕性得到改善。

真空等離子清洗設備可去除金屬表面的油脂、油污等有機物和氧化層，也可用于汽車制造過程中的塑料和油漆預處理。該真空等離子清洗設備可用于紡織品、過濾網和薄膜的親水性、疏水性和表面改性處理，還可用于提高生物醫(yī)用培養(yǎng)皿的活性，潤濕血管支架、注射器、導管和各種材料，以及交叉涂層預處理。

真空等離子清洗設備可用于絕緣材料、電子元件等的表面涂層預處理，也可用于清洗和蝕刻電路板。對薄膜、聚丙烯和其他材料進行非氧化和活化處理，以提高可焊性。