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蘇州源永動(dòng)電子有限公司是一家致力于電子制造業(yè)的科技服務(wù)企業(yè)，擁有專業(yè)的銷售，服務(wù)，管理團(tuán)隊(duì)。公司成立于2014年，源永動(dòng)經(jīng)營(yíng)電子制造過程中的輔助生產(chǎn)設(shè)備，代理深圳等離子清洗機(jī)設(shè)備，自成立之日起一直秉持“專業(yè)、細(xì)致、熱情、共贏”的企業(yè)理念，整合了行業(yè)先進(jìn)技術(shù)廠商以資歷深厚的技術(shù)服務(wù)人員，力求以更優(yōu)的價(jià)格，提供專業(yè)、周到的服務(wù)。

2、綠色清理方式，更加的環(huán)保，3、進(jìn)一步提高清理高效率，提高生產(chǎn)需求，4、深圳等離子清洗機(jī)的清理成本低，5、能解決各類的原材料，運(yùn)用方面廣，6、等離子對(duì)處理產(chǎn)品無損傷不改變材料特性，7、等離子技術(shù)清洗具有較高的可靠性、工藝安全性和作業(yè)安全性。

就以下三個(gè)部分做一個(gè)陳述：利用等離子技術(shù)對(duì)這些材料進(jìn)行表面處理，在高速高能量的等離子體的轟擊下，這些材料結(jié)構(gòu)表面得以更大化，同時(shí)在材料表面形成一個(gè)活性層，這樣橡膠、塑料就能夠進(jìn)行印刷、粘合、涂覆等操作。

四、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，凱夫拉成型后需要與其他部件進(jìn)行粘接，但該材料是疏水材料，不易涂膠，要獲得好的粘接效果需要對(duì)其進(jìn)行表面處理，主要運(yùn)用等離子對(duì)其進(jìn)行表面活化處理。

另外在完善服務(wù)的同時(shí)，源永動(dòng)得到臺(tái)灣馗鼎代理權(quán)，成為其在大陸區(qū)總代理，同時(shí)開發(fā)了等離子驗(yàn)證試片，用于判定產(chǎn)品是否經(jīng)過等離子清洗。

2018年公司開發(fā)了國(guó)產(chǎn)等離子清洗設(shè)備和干式超音波清洗機(jī)(USC)用于面板業(yè)和半導(dǎo)體行微塵去除，力求向新技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展，在創(chuàng)造經(jīng)濟(jì)利潤(rùn)的同時(shí)為客戶提供更優(yōu)的清潔方案。

腔體式深圳等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)介：1、清洗腔體：提供真空環(huán)境完成等離子體清洗，當(dāng)?shù)入x子體與被清洗物體表面相互作用時(shí)，一方面利用等離子體或者是等離子激活的化學(xué)活性物質(zhì)與材料表面污物進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，如用等離子體中的活性氧與材料表面的有機(jī)物進(jìn)行氧化反應(yīng)。

因此，等離子清洗工藝提供了有效的表面清洗和活化方法，在保證整體材料性質(zhì)不變的情況下，等離子清洗工藝實(shí)現(xiàn)了固體表面幾個(gè)分子層的物理或化學(xué)改性，等離子體是部分電離的氣體，是常見的固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)以外的第四態(tài)。

為了防止硅橡膠與人體接觸表面的老化，需要對(duì)其表面進(jìn)行氧等離子處理，另外，可用等離子處理硅橡膠以增加其表面活性，然后在表面涂度一層不易老化的疏水材料，其效果也非常好，無紡布的優(yōu)越性能使其應(yīng)用范圍非常廣泛，在醫(yī)療衛(wèi)生、家庭裝飾、服裝、工業(yè)、農(nóng)業(yè)中均有應(yīng)用。

整合了行業(yè)先進(jìn)技術(shù)廠商以資歷深厚的技術(shù)服務(wù)人員，力求以更優(yōu)的價(jià)格，提供專業(yè)、周到的服務(wù)。

plasma真空等離子清洗機(jī)的產(chǎn)品特點(diǎn)：超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，控制設(shè)備運(yùn)行；可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和技術(shù)支持。

近年來，隨著封裝成本壓力的不斷增大，引線框架從全鍍銀（載體和管腳均鍍銀）全面轉(zhuǎn)向環(huán)鍍銀（在管腳鍍銀和載體焊線區(qū)域鍍一圈銀）和選鍍銀（在管腳鍍銀和管腳焊線區(qū)域選鍍銀），并且在積極開發(fā)裸銅框架（無鍍銀框架）。

Plasma又稱電漿,是紫外線發(fā)熒光的產(chǎn)物,繼固體、液體、氣體之后,電漿體是物質(zhì)的第四態(tài)，采用Ar，H2混合等離子體處理材料基片，可以起到化學(xué)清洗和物理清洗的雙重作用，同時(shí)氬等離子體的引入還有利于提高氫等離子體的數(shù)量，能夠增強(qiáng)樣品的清洗效果。

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